| 资料名称： | GB/T6621-1995 GB/T 6621-1995 硅抛光片表面平整度测试方法 |
| 标准类别： |
| 语 言： | 简体中文 | ||
| 授权形式： | 免费下载 | ||
| 标准状态： | ◎ | ||
| 作废日期： | ◎ | ||
| 发布日期： | 1995-04-18◎ | ||
| 实施日期： | 1995-01-02◎ | ||
| 首发日期： | 1986-07-26◎ | ||
| 复审日期： | 2004-10-14◎ | ||
| 出版日期： | ◎ |
| 标准编号： | GB/T 6621-1995 | |
| 标准名称： | 硅抛光片表面平整度测试方法 | |
| 英文名称： | Test methods for surface flatness of silicon polished slices（仅供参考） | |
| 标准简介： | GB/T 6621-1995 硅抛光片表面平整度测试方法 国家标准(GB) GB/T6621-1995 本标准规定了用相干光的干涉现象测量硅抛光片表面平整度的方法。本标准适用于检测硅抛光片的表面平整度，也适用于检测硅外延片和类镜面状半导体晶片的表面平整度。 压缩包解压密码：www.51zbz.com | |
| 推荐链接： | 载入中 | |
| 替代情况： | GB 6621-1986（仅供参考） | |
| 采标情况： | ASTM F 775-1988,EQV（仅供参考） | |
| 发布部门： | 国家技术监督局（仅供参考） | |
| 提出单位： | （仅供参考） | |
| 归口单位： | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会（仅供参考） | |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会（仅供参考） | |
| 起草单位： | 电子部标准化所（仅供参考） | |
| 起 草 人： | （仅供参考） | |
| 出 版 社： | 中国标准出版社（仅供参考） |
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| 页 数： | 平装16开， 页数：11， 字数：21千字（仅供参考） | |
| 书 号： | （仅供参考） | |
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