| 资料名称： | GB/T16879-1997 GB/T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则 |
| 标准类别： |
| 语 言： | 简体中文 | ||
| 授权形式： | 免费下载 | ||
| 标准状态： | ◎ | ||
| 作废日期： | ◎ | ||
| 发布日期： | 1997-06-20◎ | ||
| 实施日期： | 1998-03-01◎ | ||
| 首发日期： | 1997-06-20◎ | ||
| 复审日期： | 2004-10-14◎ | ||
| 出版日期： | 2004-04-11◎ |
| 标准编号： | GB/T 16879-1997 | |
| 标准名称： | 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则 | |
| 英文名称： | Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment（仅供参考） | |
| 标准简介： | GB/T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则 国家标准(GB) GB/T16879-1997 本准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的，掩膜制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以，曝光条件应经厂家和用户双方同意。 压缩包解压密码：www.51zbz.com | |
| 推荐链接： | 载入中 | |
| 替代情况： | （仅供参考） | |
| 采标情况： | SEMI P21-1992,IDT（仅供参考） | |
| 发布部门： | 国家技术监督局（仅供参考） | |
| 提出单位： | （仅供参考） | |
| 归口单位： | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会（仅供参考） | |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会（仅供参考） | |
| 起草单位： | 中国科学院微电子中心（仅供参考） | |
| 起 草 人： | （仅供参考） | |
| 出 版 社： | 中国标准出版社（仅供参考） |
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| 页 数： | 平装16开， 页数：9， 字数：12千字（仅供参考） | |
| 书 号： | 155066.1-14348（仅供参考） | |
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